Китай відстає на 15 років у розробці передового обладнання для виробництва чипів – постачальник ASML
Керівник напівпровідникового підрозділу німецької Zeiss Group Франк Ромунд заявив, що Китаю знадобиться приблизно 15 років, аби створити власні передові системи екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV) для виробництва найсучасніших мікросхем.
Джерело: www.pravda.com.ua
Авторство: Іван Д'яконов
Дата:
